以Fused Silica或ZnSe為基材，蝕刻繞射圖案，鍍上抗反射膜，可以勝任在高能量或高功率雷射的應用，且可以適合UV-IR各種不同波長的雷射，多焦點繞射元件不受雷射的輸出模態的影響，但會有最小的入射光束直徑限制。
適合的應用：
雷射加工透明材料(如玻璃切割)、雷射微加工、眼科應用、光學傳感器、平行光變焦系統等。
標準展品列表使用說明：
- 先輸入左方Wavelength(λ)欄裡面的波長、External Focusing Lens欄裡面的聚焦鏡焦距、Refractive index of foci medium欄裡面的加工物件折射係數。
- 右方表格會依據剛輸入的參數列出相關的標準產品。
- Number of Foci: 表示產生的焦點數目。
- Average separation between foci[um]: 表示在搭配的聚焦鏡與介質枝條件時，各焦點之間的距離。